Argon florür(ArF), derin ultraviyole eksimer lazerlerde yaygın olarak kullanılan bir eksimer gaz karışımıdır. 'Eksimer' terimi, inert bir soygaz ile reaktif bir halojen bileşeni arasında geçici olarak oluşan uyarılmış dimer durumunu ifade eder. Bazı temel özellikleri:
-
Bileşim – Tipik olarak %0,1 F2 ve %99,9 argon içerir ve geri kalan kısmı bir tampon gaz ile dengelenir.
-
Tepkime – Elektrik deşarjı argon atomlarını uyarır ve bu atomlar flor molekülleriyle tepkimeye girer.
-
Heyecanlı hal – OArF* Eksimer durumu hızla bozunarak Ar ve F atomlarını ayırır.
-
Dalga boyu – Bu gevşeme süreci 193 nm dalga boyuna sahip fotonlar yayar.
-
Darbeli çıkış – Eksimer lazerler, yüksek tepe gücüne sahip darbeli UV ışınları üretir.
Argon ve florun eşsiz reaksiyonu, mikro işleme ve fotolitografi için ideal olan kısa dalga boylu yüksek enerjili lazer darbelerinin elde edilmesini sağlar.
Yayın tarihi: 02-11-2023