アルゴンフッ化物エキシマレーザーガス入門

   フッ化アルゴンArFは、深紫外エキシマレーザーで広く使用されているエキシマガス混合物です。「エキシマ」という用語は、不活性な希ガスと反応性の高いハロゲン成分との間に一時的に形成される励起二量体状態を指します。主な特性は以下のとおりです。

• 組成 – 通常、0.1%のフッ素と99.9%のアルゴンを含み、残りは緩衝ガスでバランスが取られています。

• 反応 – 放電によってアルゴン原子が励起され、それがフッ素分子と反応する。

• 興奮状態 –ArF* エキシマー状態は急速に崩壊し、Ar原子とF原子が分離する。

• 波長 – この緩和過程では、波長193nmの光子が放出されます。

• パルス出力 – エキシマレーザーは、ピーク出力の高いパルス状の紫外線ビームを生成します。

アルゴンとフッ素の特異な反応により、マイクロマシニングやフォトリソグラフィーに最適な短波長・高エネルギーのレーザーパルスが得られる。