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Einführung in den Argonfluorid-Excimerlaser (Gas)

 

 

   ArgonfluoridArF ist ein Excimergasgemisch, das in Excimerlasern im tiefen Ultraviolettbereich weit verbreitet ist. Der Begriff „Excimer“ bezeichnet den angeregten Dimerzustand, der sich vorübergehend zwischen einem inerten Edelgas und einer reaktiven Halogenkomponente bildet. Einige wichtige Eigenschaften:

 

 

  • Zusammensetzung – Enthält typischerweise 0,1 % F2 und 99,9 % Argon, Rest ein Puffergas.

  • Reaktion – Durch elektrische Entladung werden Argonatome angeregt, die mit Fluormolekülen reagieren.

  • Erregungszustand – DerArF* Der Excimerenzustand zerfällt schnell in getrennte Ar- und F-Atome.

  • Wellenlänge – Bei diesem Relaxationsprozess werden Photonen mit einer Wellenlänge von 193 nm emittiert.

  • Gepulste Leistung – Excimerlaser erzeugen gepulste UV-Strahlen mit hoher Spitzenleistung.

 

 

Die einzigartige Reaktion von Argon und Fluor ermöglicht die Erzeugung von kurzwelligen, hochenergetischen Laserpulsen, die ideal für die Mikrobearbeitung und Fotolithografie geeignet sind.


Veröffentlichungsdatum: 02.11.2023