Produkte
Wir führen über 100 verschiedene Produkte in den Bereichen Spezialgase, Edelgase und Excimerlasergase.
Produktparameter
| Andere Bezeichnungen: | Argonfluorid-Lasergas (193 nm); Kryptonfluorid-Lasergas (248 nm); Xenonchlorid-Lasergas (308 nm) |
| Produkttyp: | ArF, KrF, XeCl, 5 % F2/He, Kr/Ne, F2/Kr/Ne, Ar/Ne, F2/Ar/Ne |
| UN-Nr.: | UN1956 |
| Zylindervolumen: | 11 l, 16 l, 20 l, 49 l, 50 l |
| Ventiltyp: | CGA679, DIN 8, DIN 14 |
Anwendungsprogramm
Excimerlaser-Gasgemische, auch Edelgas-Halogenid-Gemische genannt, werden in Excimerlasern eingesetzt. Diese UV-Laser finden in verschiedenen industriellen und medizinischen Anwendungen Verwendung. Typischerweise bestehen diese Gasgemische aus einem Edelgas wie Argon, Krypton oder Xenon und einem Halogengas wie Fluor oder Chlor. Die Excimerlaser-Gasgemische erzeugen kurze, hochenergetische UV-Lichtimpulse, die für präzise Materialabtragung und Oberflächenmodifizierung genutzt werden können. Dadurch eignen sie sich ideal für Anwendungen wie Mikrobearbeitung, Lithografie und Ophthalmologie. Darüber hinaus finden diese Gasgemische auch in der Medizin Anwendung, beispielsweise bei der Behandlung von Hauterkrankungen und in der refraktiven Hornhautchirurgie.
Excimerlaser-Gasmischungen für die Herstellung von Präzisionsinstrumenten
Excimerlaser-Gasgemische für medizinische Geräte
Excimerlaser-Gasmischungen für die wissenschaftliche Forschung
Excimerlaser-Gasgemische werden in Sicherheits- und Überwachungsanwendungen eingesetzt.
Excimerlaser-Gasgemische für den Umweltschutz
Excimerlaser-Gasmischungen für die industrielle Fertigung
Verpackung & Versand
Produktdetails
| 品 牌 Marke | 机 型 Typ | 波 长 Wellenlänge | Kein Gas |
| ATL | ATL ARF-1 | 193 nm | F2,Ar,Xe,Ne |
| ATL KRF-1 | 248 nm | F2,Kr,Xe,Ne | |
| TUI | CTFTS-ARFV 2.2 | 193 nm | F2,Ar,He,Ne |
| CTFTS-KRFV 2.1 | 248 nm | F2,Kr,He,Ne | |
| CTFTS-KRFV 2.2 | 248 nm | F2,Kr,He,Xe,Ne | |
| CTMD-ARFV 2.0 | 193 nm | F2,Ar,He,O2,Ne | |
| CTMD-XECLV 2.1 | 308 nm | HCl,H2,Xe,Ne | |
| CTMN-ARFV 2.0 | 193 nm | F2,Ar,He,Ne | |
| CTMN-ARFV 2.1 | 193 nm | F2,Ar,He,Ne | |
| CTMN-KRFV 1.0 | 248 nm | F2,Kr,He,Ne | |
| CTMN-KRFV 2.0 | 248 nm | F2,Kr,He,Ne | |
| CTMN-XECLV 2.0 | 308 nm | HCl,H2,Xe,Ne | |
| CTMN-XECLV 5.0 | 308 nm | HCl,H2,Xe,Ne | |
| CTMN-XEFV 1.1 | 450 nm bis 520 nm | F2,Xe,He,Ne | |
| CTMN-XEFV 1.2 | 450 nm bis 520 nm | F2,Xe,He,Ne | |
| GAM Laser | EX5 ArF | 193 nm | F2,Ar,He,O2,Ne |
| EX5 KrF | 248 nm | F2,Kr,He,Ne | |
| EX5 XeCl | 308 nm | HCl,H2,Xe,Ne | |
| EX10 | 193 nm | F2,Ar,He,Ne | |
| EX50 | 193 nm | F2,Ar,He,Ne | |
| EX100 | 193 nm | F2,Ar,He,Ne | |
| Photomedex | XeCl | 308 nm | HCl,Xe,Ne |
| Photoscribe | ArF | 193 nm | F2,Ar,Ne |
| KrF | 248 nm | F2,Kr,Ne | |
| PotomacPhotonics | ArF | 193 nm | F2,Ar,Ne |
| KrF | 248 nm | F2,Kr,Ne | |
| Spektranetik | XeCl | 308 nm | HCl,H2,Xe,Ne |
| Andere Bezeichnungen: | Argonfluorid-Lasergas (193 nm); Kryptonfluorid-Lasergas (248 nm); Xenonchlorid-Lasergas (308 nm) | |
| Produkttyp: | ArF, KrF, XeCl, 5 % F2/He, Kr/Ne, F2/Kr/Ne, Ar/Ne, F2/Ar/Ne | |
| UN-Nr.: | UN1956 | |
| Zylindervolumen: | 11 l, 16 l, 20 l, 49 l, 50 l | |
| Ventiltyp: | CGA679, DIN 8, DIN 14 | |
| Hochleistungs-Excimerlaser-Gas | ||
| Verfügbare Wellenlänge | 193 nm | ArF |
| 248 nm | KrF | |
| 308 nm | XeCl | |
| 450 nm bis 520 nm | XeF | |
| Maximale UV-Leistung | 540 W | |
| Maximale ultraviolette Energie | 1100 mJ | |
| Wiederholungsfrequenz | Variable Frequenz, 1–600 Hz | |
| Pulsstabilität | 0,5 % bis 1 % (Effektivwert) | |
| Langfristige Drift | 0,1 % bis 0,5 % (Effektivwert) | |
| Strahlverteilung | Einheitlich, Flachtop | |
| Impulsbreite | 10–20 ns | |
| Relative Gasreinheit | F2, 99,9 % | |
| Ar, 99,9999 % | ||
| Er, 99,9999 % | ||
| Ne, 99,9999 % | ||
| HCl, Elektronisch | ||
| Kr, 99,999 % | ||
| Xe, 99,999 % | ||
| O2, 99,999 % | ||
| H2, 99,999 % | ||
| Gasbetriebstemperatur | -40 °C bis +74 °C | |
| Gasdruck | 520 psig ~ 2400 psig / 35 Bar ~ 167 Bar | |
| Zylinderspezifikation | 10 l, 16 l, 20 l, 50 l | |
| Ventilschnittstelle | CGA 679, CGA 330, CGA 580, DIN 6, DIN 8, DIN 14 | |
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