Продукты

Продукты

В нашем ассортименте более 100 наименований специальных газов, редкоземельных газов и газов для эксимерных лазеров.

  • Газовые смеси для эксимерных лазеров
  • Газовые смеси для эксимерных лазеров
  • Газовые смеси для эксимерных лазеров
  • Газовые смеси для эксимерных лазеров
  • Газовые смеси для эксимерных лазеров
  • Газовые смеси для эксимерных лазеров
  • Газовые смеси для эксимерных лазеров
  • Газовые смеси для эксимерных лазеров
  • Газовые смеси для эксимерных лазеров
  • Газовые смеси для эксимерных лазеров
  • Газовые смеси для эксимерных лазеров
  • Газовые смеси для эксимерных лазеров

Газовые смеси для эксимерных лазеров

Процесс :

Эксимерные лазеры имеют множество применений и используются в таких областях, как коррекция зрения, производство полупроводников, промышленное применение и маркировка, а также дерматология. Для эксимерных лазерных смесей существует несколько комбинаций газов в зависимости от предполагаемого применения. Некоторые из них представляют собой комбинации фтора и аргона, фтора и криптона, а также хлористого водорода и ксенона. Различные смеси будут создавать лазерные волны разной длины.

  • Мы можем поставить:
  • Фтор + Аргон - 193 нм.
  • Фтор + Криптон - 248 нм
  • Хлористый водород + ксенон-308 нм
  • Хлористый водород + Криптон-222 нм
  • F2 0,2% Ar 6,1% Ne (остальное)
  • F2 0,2% He 3,8% Ar 6,1% Ne 89,9% (баланс)
  • F2 0,2% Ar 6,1% Ne (остальное)

Обзор

Упаковка и доставка

Подробная информация о товаре

Сопутствующие товары

Параметры продукта

Другие названия:

Аргоновый фторидный лазерный газ (193 нм); криптоновый фторидный лазерный газ (248 нм); ксеноновый хлоридный лазерный газ (308 нм).

Тип товара:

ArF, KrF, XeCl, 5%F2/He, Kr/Ne, F2/Kr/Ne, Ar/Ne, F2/Ar/Ne

Номер ООН:

ООН1956

Объем цилиндра:

11 л, 16 л, 20 л, 49 л, 50 л

Тип клапана:

CGA679, DIN 8, DIN 14

Программа приложений

Газовые смеси для эксимерных лазеров, также известные как смеси галогенидов инертных газов, используются в эксимерных лазерах — типе ультрафиолетовых лазеров, применяемых в различных промышленных и медицинских областях. Эти газовые смеси обычно включают инертный газ, такой как аргон, криптон или ксенон, в сочетании с галогенным газом, таким как фтор или хлор. Газовые смеси для эксимерных лазеров генерируют короткие импульсы высокоэнергетического ультрафиолетового излучения, которые могут использоваться для точной абляции материалов и модификации поверхности. Это делает их идеальными для таких применений, как микрообработка, литография и офтальмология. Кроме того, эти газовые смеси могут также использоваться в медицинских целях, например, при лечении кожных заболеваний и рефракционной хирургии роговицы.
Газовые смеси для эксимерных лазеров в производстве прецизионных приборов

Газовые смеси для эксимерных лазеров в производстве прецизионных приборов

Газовые смеси для эксимерных лазеров в медицинских приборах

Газовые смеси для эксимерных лазеров в медицинских приборах

Газовые смеси для эксимерных лазеров в научных исследованиях

Газовые смеси для эксимерных лазеров в научных исследованиях

Газовые смеси для эксимерных лазеров используются в системах безопасности и видеонаблюдения.

Газовые смеси для эксимерных лазеров используются в системах безопасности и видеонаблюдения.

Газовые смеси для эксимерных лазеров в целях защиты окружающей среды

Газовые смеси для эксимерных лазеров в целях защиты окружающей среды

Газовые смеси для эксимерных лазеров в промышленном производстве

Газовые смеси для эксимерных лазеров в промышленном производстве

Упаковка и доставка

 

преимущества

Подробная информация о товаре

品 牌 бренд 机 型 тип 波 长 Длина волны 气体 газ
АТЛ АТЛ АРФ-1 193 нм F2,Ar,Xe,Ne
АТЛ КРФ-1 248 нм F2,Kr,Xe,Ne
TUI CTFTS-ARFV 2.2 193 нм F2,Ar,He,Ne
CTFTS-KRFV 2.1 248 нм F2,Kr,He,Ne
CTFTS-KRFV 2.2 248 нм F2,Kr,He,Xe,Ne
CTMD-ARFV 2.0 193 нм F2,Ar,He,O2,Ne
CTMD-XECLV 2.1 308 нм HCl, H2, Xe, Ne
CTMN-ARFV 2.0 193 нм F2,Ar,He,Ne
CTMN-ARFV 2.1 193 нм F2,Ar,He,Ne
CTMN-KRFV 1.0 248 нм F2,Kr,He,Ne
CTMN-KRFV 2.0 248 нм F2,Kr,He,Ne
CTMN-XECLV 2.0 308 нм HCl, H2, Xe, Ne
CTMN-XECLV 5.0 308 нм HCl, H2, Xe, Ne
CTMN-XEFV 1.1 450 нм~520 нм F2,Xe,He,Ne
CTMN-XEFV 1.2 450 нм~520 нм F2,Xe,He,Ne
Лазер GAM EX5 ArF 193 нм F2,Ar,He,O2,Ne
EX5 KrF 248 нм F2,Kr,He,Ne
EX5 XeCl 308 нм HCl, H2, Xe, Ne
EX10 193 нм F2,Ar,He,Ne
EX50 193 нм F2,Ar,He,Ne
ЭКС100 193 нм F2,Ar,He,Ne
Фотомедекс XeCl 308 нм HCl, Xe, Ne
Фотосписок АрФ 193 нм F2,Ar,Ne
КрФ 248 нм F2,Kr,Ne
ПотомакФотоникас АрФ 193 нм F2,Ar,Ne
КрФ 248 нм F2,Kr,Ne
Спектранетика XeCl 308 нм HCl, H2, Xe, Ne

 

Другие названия: Аргоновый фторидный лазерный газ (193 нм); криптоновый фторидный лазерный газ (248 нм); ксеноновый хлоридный лазерный газ (308 нм).
Тип товара: ArF, KrF, XeCl, 5%F2/He, Kr/Ne, F2/Kr/Ne, Ar/Ne, F2/Ar/Ne
Номер ООН: ООН1956
Объем цилиндра: 11 л, 16 л, 20 л, 49 л, 50 л
Тип клапана: CGA679, DIN 8, DIN 14
Мощный эксимерный лазерный газ
Доступная длина волны 193 нм АрФ
248 нм КрФ
308 нм XeCl
450 нм~520 нм XeF
Максимальная мощность УФ-излучения 540 Вт
Максимальная энергия ультрафиолетового излучения 1100 мДж
Частота повторения Регулируемый, 1–600 Гц
Стабильность пульса 0,5%~1%, среднеквадратичное отклонение
Долгосрочный дрейф 0,1%~0,5%, среднеквадратичное отклонение
Распределение пучка Однородный, плоский верх
Ширина импульса 10–20 нс
Относительная чистота газа F2, 99,9%
Ar, 99,9999%
Он, 99,9999%
Не, 99,9999%
HCl, Электронный
Кр, 99,999%
Xe, 99,999%
O2, 99,999%
H2, 99,999%
Рабочая температура газа -40°C ~ +74°C
давление газа 520 psig ~ 2400 psig / 35 Bar ~ 167 Bar
Технические характеристики цилиндра 10 л, 16 л, 20 л, 50 л
интерфейс клапана CGA 679, CGA 330, CGA 580, DIN 6, DIN 8, DIN 14

Сопутствующие товары

Газовые смеси для эксимерных лазеров

Газовые смеси для эксимерных лазеров

Газ для калибровки на заказ

Газ для калибровки на заказ

Онлайн-сообщение

Если у вас возникнут какие-либо вопросы, пожалуйста, оставьте нам сообщение, и мы ответим вам как можно скорее.