Productos
Contamos con más de 100 tipos de productos en gases especiales, gases raros y gases para láseres de excímeros.
Parámetros del producto
| Otros nombres: | Gas láser de fluoruro de argón (193 nm); gas láser de fluoruro de kriptón (248 nm); gas láser de cloruro de xenón (308 nm) |
| Tipo de producto: | ArF, KrF, XeCl, 5%F2/He, Kr/Ne, F2/Kr/Ne, Ar/Ne, F2/Ar/Ne |
| N.º ONU: | ONU 1956 |
| Volumen del cilindro: | 11L, 16L, 20L, 49L, 50L |
| Tipo de válvula: | CGA679, DIN 8, DIN 14 |
Programa de aplicación
Las mezclas de gases para láseres de excímeros, también conocidas como mezclas de haluros de gases nobles, se utilizan en los láseres de excímeros, un tipo de láser ultravioleta empleado en diversas aplicaciones industriales y médicas. Estas mezclas suelen incluir un gas noble como el argón, el criptón o el xenón, combinado con un gas halógeno como el flúor o el cloro. Las mezclas de gases para láseres de excímeros producen pulsos cortos de luz ultravioleta de alta energía, que pueden utilizarse para la ablación precisa de materiales y la modificación de superficies. Esto las hace ideales para aplicaciones como el micromecanizado, la litografía y la oftalmología. Además, estas mezclas de gases también pueden utilizarse en aplicaciones médicas, como en el tratamiento de afecciones cutáneas y en la cirugía refractiva corneal.
Mezclas de gases láser de excímeros para la fabricación de instrumentos de precisión
Mezclas de gases para láseres excimer en dispositivos médicos
Mezclas de gases para láseres de excímeros para investigación científica
Las mezclas de gases para láseres de excímeros se utilizan en aplicaciones de seguridad y vigilancia.
Mezclas de gases láser de excímeros para la protección del medio ambiente
Mezclas de gases láser de excímeros para la fabricación industrial
Embalaje y envío
Detalles del producto
| 品 牌 marca | 机 型 tipo | 波 长 Longitud de onda | 气体 gas |
| Atlanta | ATL ARF-1 | 193 nm | F2, Ar, Xe, Ne |
| ATL KRF-1 | 248 nm | F2, Kr, Xe, Ne | |
| TUI | CTFTS-ARFV 2.2 | 193 nm | F2,Ar,Él,Ne |
| CTFTS-KRFV 2.1 | 248 nm | F2,Kr,Él,Ne | |
| CTFTS-KRFV 2.2 | 248 nm | F2,Kr,He,Xe,Ne | |
| CTMD-ARFV 2.0 | 193 nm | F2,Ar,He,O2,Ne | |
| CTMD-XECLV 2.1 | 308 nm | HCl, H2, Xe, Ne | |
| CTMN-ARFV 2.0 | 193 nm | F2,Ar,Él,Ne | |
| CTMN-ARFV 2.1 | 193 nm | F2,Ar,Él,Ne | |
| CTMN-KRFV 1.0 | 248 nm | F2,Kr,Él,Ne | |
| CTMN-KRFV 2.0 | 248 nm | F2,Kr,Él,Ne | |
| CTMN-XECLV 2.0 | 308 nm | HCl, H2, Xe, Ne | |
| CTMN-XECLV 5.0 | 308 nm | HCl, H2, Xe, Ne | |
| CTMN-XEFV 1.1 | 450 nm ~ 520 nm | F2,Xe,Él,Ne | |
| CTMN-XEFV 1.2 | 450 nm ~ 520 nm | F2,Xe,Él,Ne | |
| Láser GAM | EX5 ArF | 193 nm | F2,Ar,He,O2,Ne |
| EX5 KrF | 248 nm | F2,Kr,Él,Ne | |
| EX5 XeCl | 308 nm | HCl, H2, Xe, Ne | |
| EX10 | 193 nm | F2,Ar,Él,Ne | |
| EX50 | 193 nm | F2,Ar,Él,Ne | |
| EX100 | 193 nm | F2,Ar,Él,Ne | |
| Fotomedex | XeCl | 308 nm | HCl, Xe, Ne |
| Fotografiar | ArF | 193 nm | F2,Ar,Ne |
| KrF | 248 nm | F2,Kr,Ne | |
| PotomacPhotonics | ArF | 193 nm | F2,Ar,Ne |
| KrF | 248 nm | F2,Kr,Ne | |
| Espectranética | XeCl | 308 nm | HCl, H2, Xe, Ne |
| Otros nombres: | Gas láser de fluoruro de argón (193 nm); gas láser de fluoruro de kriptón (248 nm); gas láser de cloruro de xenón (308 nm) | |
| Tipo de producto: | ArF, KrF, XeCl, 5%F2/He, Kr/Ne, F2/Kr/Ne, Ar/Ne, F2/Ar/Ne | |
| N.º ONU: | ONU 1956 | |
| Volumen del cilindro: | 11L, 16L, 20L, 49L, 50L | |
| Tipo de válvula: | CGA679, DIN 8, DIN 14 | |
| Láser de excímero de alta potencia | ||
| Longitud de onda disponible | 193 nm | ArF |
| 248 nm | KrF | |
| 308 nm | XeCl | |
| 450 nm ~ 520 nm | XeF | |
| Potencia UV máxima | 540 W | |
| Energía ultravioleta máxima | 1100 mj | |
| Frecuencia de repetición | Variable, 1~600 Hz | |
| Estabilidad del pulso | 0,5%~1%, rms | |
| Deriva a largo plazo | 0,1%~0,5%, rms | |
| Distribución del haz | Uniforme, parte superior plana | |
| Ancho de pulso | 10~20 ns | |
| Pureza relativa del gas | F2, 99,9% | |
| Ar, 99,9999% | ||
| Él, 99.9999% | ||
| Ne, 99,9999% | ||
| HCl, electrónico | ||
| Kr, 99,999% | ||
| Xe, 99,999% | ||
| O2, 99,999% | ||
| H2, 99,999% | ||
| Temperatura de funcionamiento del gas | -40 °C ~ +74 °C | |
| Presión de gas | 520 psig ~ 2400 psig / 35 bar ~ 167 bar | |
| Especificación del cilindro | 10L, 16L, 20L, 50L | |
| Interfaz de válvula | CGA 679, CGA 330, CGA 580, DIN 6, DIN 8, DIN 14 | |
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