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Temos mais de 100 tipos de produtos em gases especiais, gases raros e gases para laser de excímero.
Parâmetros do produto
| Outros nomes: | Gás laser de fluoreto de argônio (193 nm); gás laser de fluoreto de criptônio (248 nm); gás laser de cloreto de xenônio (308 nm) |
| Tipo de produto: | ArF,KrF,XeCl,5%F2/He, Kr/Ne,F2/Kr/Ne,Ar/Ne,F2/Ar/Ne |
| Nº ONU: | ONU 1956 |
| Volume do cilindro: | 11L, 16L, 20L, 49L, 50L |
| Tipo de válvula: | CGA679, DIN 8, DIN 14 |
Programa de inscrição
As misturas de gases para lasers de excímero, também conhecidas como misturas de haletos de gases raros, são utilizadas em lasers de excímero, um tipo de laser ultravioleta empregado em diversas aplicações industriais e médicas. Essas misturas gasosas geralmente incluem um gás raro, como argônio, criptônio ou xenônio, combinado com um gás halogênio, como flúor ou cloro. As misturas de gases para lasers de excímero produzem pulsos curtos de luz ultravioleta de alta energia, que podem ser utilizados para ablação precisa de materiais e modificação de superfícies. Isso as torna ideais para aplicações como micromecanização, litografia e oftalmologia. Além disso, essas misturas gasosas também podem ser utilizadas em aplicações médicas, como no tratamento de distúrbios da pele e em cirurgia refrativa da córnea.
Misturas de gases para laser de excímero na fabricação de instrumentos de precisão.
Misturas de gases para laser excimer em dispositivos médicos
Misturas de gases para laser de excímero para pesquisa científica
Misturas de gases para lasers de excímero são utilizadas em aplicações de segurança e vigilância.
Misturas de gases para laser de excímero para proteção ambiental
Misturas de gases para laser de excímero para fabricação industrial
Embalagem e envio
Detalhes do produto
| marca | tipo | 波长 Comprimento de onda | gás |
| ATL | ATL ARF-1 | 193 nm | F2,Ar,Xe,Ne |
| ATL KRF-1 | 248 nm | F2,Kr,Xe,Ne | |
| TUI | CTFTS-ARFV 2.2 | 193 nm | F2,Ar,Ele,Ne |
| CTFTS-KRFV 2.1 | 248 nm | F2,Kr,Ele,Ne | |
| CTFTS-KRFV 2.2 | 248 nm | F2,Kr,He,Xe,Ne | |
| CTMD-ARFV 2.0 | 193 nm | F2,Ar,He,O2,Ne | |
| CTMD-XECLV 2.1 | 308 nm | HCl, H2, Xe, Ne | |
| CTMN-ARFV 2.0 | 193 nm | F2,Ar,Ele,Ne | |
| CTMN-ARFV 2.1 | 193 nm | F2,Ar,Ele,Ne | |
| CTMN-KRFV 1.0 | 248 nm | F2,Kr,Ele,Ne | |
| CTMN-KRFV 2.0 | 248 nm | F2,Kr,Ele,Ne | |
| CTMN-XECLV 2.0 | 308 nm | HCl, H2, Xe, Ne | |
| CTMN-XECLV 5.0 | 308 nm | HCl, H2, Xe, Ne | |
| CTMN-XEFV 1.1 | 450nm~520nm | F2,Xe,Ele,Ne | |
| CTMN-XEFV 1.2 | 450nm~520nm | F2,Xe,Ele,Ne | |
| Laser GAM | EX5 ArF | 193 nm | F2,Ar,He,O2,Ne |
| EX5 KrF | 248 nm | F2,Kr,Ele,Ne | |
| EX5 XeCl | 308 nm | HCl, H2, Xe, Ne | |
| EX10 | 193 nm | F2,Ar,Ele,Ne | |
| EX50 | 193 nm | F2,Ar,Ele,Ne | |
| EX100 | 193 nm | F2,Ar,Ele,Ne | |
| Fotomedix | XeCl | 308 nm | HCl, Xe, Ne |
| Fotoescreva | ArF | 193 nm | F2,Ar,Ne |
| KrF | 248 nm | F2,Kr,Ne | |
| PotomacPhotonics | ArF | 193 nm | F2,Ar,Ne |
| KrF | 248 nm | F2,Kr,Ne | |
| Espectranética | XeCl | 308 nm | HCl, H2, Xe, Ne |
| Outros nomes: | Gás laser de fluoreto de argônio (193 nm); gás laser de fluoreto de criptônio (248 nm); gás laser de cloreto de xenônio (308 nm) | |
| Tipo de produto: | ArF,KrF,XeCl,5%F2/He, Kr/Ne,F2/Kr/Ne,Ar/Ne,F2/Ar/Ne | |
| Nº ONU: | ONU 1956 | |
| Volume do cilindro: | 11L, 16L, 20L, 49L, 50L | |
| Tipo de válvula: | CGA679, DIN 8, DIN 14 | |
| Gás laser excimer de alta potência | ||
| Comprimento de onda disponível | 193 nm | ArF |
| 248 nm | KrF | |
| 308 nm | XeCl | |
| 450nm~520nm | XeF | |
| Potência UV máxima | 540 W | |
| Energia ultravioleta máxima | 1100 mj | |
| Frequência de repetição | Variável, 1~600 Hz | |
| Estabilidade do pulso | 0,5%~1%, rms | |
| Desvio de longo prazo | 0,1%~0,5%, rms | |
| Distribuição do feixe | Uniforme, Topo plano | |
| largura do pulso | 10~20 ns | |
| Pureza relativa do gás | F2, 99,9% | |
| Ar, 99,9999% | ||
| Ele, 99,9999% | ||
| Não, 99,9999% | ||
| HCl, Eletrônico | ||
| Kr, 99,999% | ||
| Xe, 99,999% | ||
| O2, 99,999% | ||
| H2, 99,999% | ||
| temperatura de operação do gás | -40°C ~ +74°C | |
| Pressão do gás | 520 psig ~ 2400 psig / 35 Bar ~ 167 Bar | |
| Especificação do cilindro | 10L, 16L, 20L, 50L | |
| Interface da válvula | CGA 679、CGA 330、CGA 580、DIN 6、DIN 8、DIN 14 | |
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