Ürünler
Özel gaz, nadir gaz ve eksimer lazer gazı kategorilerinde 100'den fazla ürün çeşidimiz bulunmaktadır.
Ürün Parametreleri
| Diğer adları: | Argon florür lazer gazı (193 nm); Kripton florür lazer gazı (248 nm); (308 nm) Ksenon klorür lazer gazı |
| Ürün türü: | ArF，KrF，XeCl，5%F2/He, Kr/Ne,F2/Kr/Ne,Ar/Ne,F2/Ar/Ne |
| BM NO. : | BM1956 |
| Silindir hacmi: | 11L, 16L, 20L, 49L, 50L |
| Vana tipi: | CGA679, DIN 8, DIN 14 |
Başvuru Programı
Nadir gaz halojenür karışımları olarak da bilinen eksimer lazer gaz karışımları, çeşitli endüstriyel ve tıbbi uygulamalarda kullanılan bir ultraviyole lazer türü olan eksimer lazerlerde kullanılır. Bu gaz karışımları tipik olarak argon, kripton veya ksenon gibi nadir bir gazın, flor veya klor gibi bir halojen gazıyla birleştirilmesinden oluşur. Eksimer lazer gaz karışımları, hassas malzeme aşındırma ve yüzey modifikasyonu için kullanılabilen kısa süreli yüksek enerjili ultraviyole ışık patlamaları üretir. Bu da onları mikro işleme, litografi ve oftalmoloji gibi uygulamalar için ideal hale getirir. Ayrıca, bu gaz karışımları cilt rahatsızlıklarının tedavisi ve kornea refraktif cerrahisi gibi tıbbi uygulamalarda da kullanılabilir.
Hassas Alet Üretimi için Excimer Lazer Gaz Karışımları
Tıbbi Cihazlar için Eksimer Lazer Gaz Karışımları
Bilimsel araştırmalar için eksimer lazer gaz karışımları
Eksimer lazer gaz karışımları güvenlik ve gözetim uygulamalarında kullanılır.
Çevre koruma amaçlı eksimer lazer gaz karışımları
Endüstriyel üretim için eksimer lazer gaz karışımları
Paketleme ve Nakliye
Ürün Detayı
| marka | tür | Dalga boyu | gaz |
| ATL | ATL ARF-1 | 193 nm | F2,Ar,Xe,Ne |
| ATL KRF-1 | 248 nm | F2,Kr,Xe,Ne | |
| TUI | CTFTS-ARFV 2.2 | 193 nm | F2,Ar,He,Ne |
| CTFTS-KRFV 2.1 | 248 nm | F2,Kr,He,Ne | |
| CTFTS-KRFV 2.2 | 248 nm | F2,Kr,He,Xe,Ne | |
| CTMD-ARFV 2.0 | 193 nm | F2,Ar,He,O2,Ne | |
| CTMD-XECLV 2.1 | 308 nm | HCl,H2,Xe,Ne | |
| CTMN-ARFV 2.0 | 193 nm | F2,Ar,He,Ne | |
| CTMN-ARFV 2.1 | 193 nm | F2,Ar,He,Ne | |
| CTMN-KRFV 1.0 | 248 nm | F2,Kr,He,Ne | |
| CTMN-KRFV 2.0 | 248 nm | F2,Kr,He,Ne | |
| CTMN-XECLV 2.0 | 308 nm | HCl,H2,Xe,Ne | |
| CTMN-XECLV 5.0 | 308 nm | HCl,H2,Xe,Ne | |
| CTMN-XEFV 1.1 | 450nm~520nm | F2,Xe,He,Ne | |
| CTMN-XEFV 1.2 | 450nm~520nm | F2,Xe,He,Ne | |
| GAM Lazer | EX5 ArF | 193 nm | F2,Ar,He,O2,Ne |
| EX5 KrF | 248 nm | F2,Kr,He,Ne | |
| EX5 XeCl | 308 nm | HCl,H2,Xe,Ne | |
| EX10 | 193 nm | F2,Ar,He,Ne | |
| EX50 | 193 nm | F2,Ar,He,Ne | |
| EX100 | 193 nm | F2,Ar,He,Ne | |
| Photomedex | XeCl | 308 nm | HCl,Xe,Ne |
| Fotoğraf yazıcısı | ArF | 193 nm | F2,Ar,Ne |
| KrF | 248 nm | F2,Kr,Ne | |
| PotomacPhotonics | ArF | 193 nm | F2,Ar,Ne |
| KrF | 248 nm | F2,Kr,Ne | |
| Spektranetik | XeCl | 308 nm | HCl,H2,Xe,Ne |
| Diğer adları: | Argon florür lazer gazı (193 nm); Kripton florür lazer gazı (248 nm); (308 nm) Ksenon klorür lazer gazı | |
| Ürün türü: | ArF，KrF，XeCl，5%F2/He, Kr/Ne,F2/Kr/Ne,Ar/Ne,F2/Ar/Ne | |
| BM NO. : | BM1956 | |
| Silindir hacmi: | 11L, 16L, 20L, 49L, 50L | |
| Vana tipi: | CGA679, DIN 8, DIN 14 | |
| Yüksek güçlü eksimer lazer gazı | ||
| Mevcut dalga boyu | 193 nm | ArF |
| 248 nm | KrF | |
| 308 nm | XeCl | |
| 450nm~520nm | XeF | |
| Maksimum UV gücü | 540 W | |
| Maksimum ultraviyole enerjisi | 1100 mj | |
| Tekrarlama sıklığı | Değişken, 1~600 Hz | |
| Nabız kararlılığı | 0.5%~1%, rms | |
| Uzun vadeli sapma | 0.1%~0.5%, rms | |
| Işın dağılımı | Üniforma, Düz üst | |
| Darbe genişliği | 10~20 ns | |
| Bağıl gaz saflığı | F2, %99,9 | |
| Ar, %99,9999 | ||
| O, %99,9999 | ||
| Ne, %99,9999 | ||
| HCl, Elektronik | ||
| Kr, %99,999 | ||
| Xe, %99,999 | ||
| O2, %99,999 | ||
| H2, %99,999 | ||
| Gaz çalışma sıcaklığı | -40°C ~ +74°C | |
| Gaz basıncı | 520 psig ~ 2400 psig / 35 Bar ~ 167 Bar | |
| Silindir özellikleri | 10L, 16L, 20L, 50L | |
| Valf arayüzü | CGA 679、CGA 330、CGA 580、DIN 6、DIN 8、DIN 14 | |
Çevrimiçi mesaj
Herhangi bir sorunuz varsa, lütfen bize bir mesaj bırakın, en kısa sürede yanıt vereceğiz.