製品

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当社は特殊ガス、希ガス、エキシマレーザーガスなど、100種類以上の製品を取り扱っています。

  • BF3-11同位体 三塩化ホウ素11同位体 ガス
  • BF3-11同位体 三塩化ホウ素11同位体 ガス

BF3-11同位体 三塩化ホウ素11同位体 ガス

プロセス :

三塩化ホウ素11(B11Cl3)は、室温・常圧では無色発煙性の気体で、可燃性、刺激性、酸性臭があり、水と接触すると塩化水素とホウ酸に分解して多量の熱を発し、湿った空気中では加水分解により煙を発生し、アルコール中では塩酸とホウ酸エステルに分解します。三塩化ホウ素11は反応性が高く、様々な配位化合物を形成でき、加熱するとガラスやセラミックスと反応するほか、多くの有機物と反応して様々な有機ホウ素化合物を形成します。高純度三塩化ホウ素11は、主に(シリコン)半導体デバイス製造プロセスの拡散ドーピングに使用され、高温でシリコンの拡散によって生成されたホウ素不純物を分解した後、P型半導体を形成します。また、Al、MoSi2、TaSi2、TiSi2、WSiなどの材料のドライエッチングにも使用できます。

概要

製品仕様

関連製品

製品パラメータ

同位体名:

三フッ化ホウ素11

同位体記号:

11BF3

中性子数:

6

質量数:

11

原子番号:

5

自然発生率:

100%

人生の半分:

安定同位体

放射能:

非放射性同位体

電子配置:

1s²2s²2p¹

同位体名

三フッ化ホウ素11

アプリケーションプログラム

三フッ化ホウ素11ガスは、多様な用途を持つ特異な同位体です。中性子捕獲断面積が大きいため、原子力産業では中性子検出器として広く用いられています。核医学分野では、陽電子放出断層撮影(PET)イメージングにおいて、体内の代謝過程を可視化するために使用されています。また、半導体産業では、電子機器用のホウ素ドープ膜の成膜にも用いられています。さらに、化学反応における触媒や、特殊光ファイバーの製造にも利用されています。その安定性と高純度により、幅広い用途において貴重な存在となっています。
三フッ化ホウ素11は陽電子を生成するために使用できる。

三フッ化ホウ素11は陽電子を生成するために使用できる。

三フッ化ホウ素11は核融合の研究に利用できる。

三フッ化ホウ素11は核融合の研究に利用できる。

三フッ化ホウ素11は核医学の研究に利用できる。

三フッ化ホウ素11は核医学の研究に利用できる。

三フッ化ホウ素11は、同位体標識化合物の調製に使用できる。

三フッ化ホウ素11は、同位体標識化合物の調製に使用できる。

三フッ化ホウ素11は化学反応の研究に使用できる。

三フッ化ホウ素11は化学反応の研究に使用できる。

三フッ化ホウ素11は材料科学の研究に利用できる。

三フッ化ホウ素11は材料科学の研究に利用できる。

製品仕様

パラメータ パラメータ

単位 单位

仕様評価

分析方法 分析方法

BF3度

%

99.995以上

/

11B 丰度 (富集度)

%

99.8%以上

ICP-MS(离子质谱仪)

O2

ppmv

<5.0

GC(色谱仪)

N2

ppmv

<40.0

GC(色谱仪)

CO2

ppmv

10.0未満

GC(色谱仪)

CO

ppmv

<25.0

GC(色谱仪)

CH4

ppmv

10.0未満

GC(色谱仪)

s02

ppmv

<2.0

ウェットケミカル(湿化学法)

SiF4

ppmw

<4.0

測光器 (分光光度计)

硫酸塩

ppmw

<4.0

測光器 (分光光度计)

HF

ppmv

該当なし

FTIR(红外光谱仪)

利点

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