製品

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当社は特殊ガス、希ガス、エキシマレーザーガスなど、100種類以上の製品を取り扱っています。

  • 三フッ化窒素(NF3)ガス
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三フッ化窒素(NF3)ガス

プロセス :

三フッ化窒素は、化学式NF3で表される無機化合物です。この窒素フッ素化合物は、無色無臭の不燃性ガスです。マイクロエレクトロニクス分野では、エッチング剤としてますます広く使用されています。三フッ化窒素(NF3)は、電子産業、半導体産業、太陽光発電産業などで広く使用されており、残留物がなく、洗浄速度が速く、分解しやすいという利点を持つ優れたエッチングおよび洗浄ガスです。

概要

梱包と発送

製品詳細

関連製品

製品パラメータ

製品名:

三フッ化窒素

CAS:

7783-54-2

MF:

F3N

MW:

71

EINECS:

232-007-1

製品カテゴリ:

無機物;無機フッ化物

分子ファイル:

7783-54-2.mol

製品名:

三フッ化窒素

製品仕様

製品 NF3
パッケージサイズ 40リットルシリンダー
充填量/シリンダー 20kg
20フィートコンテナに積載された数量 240気筒
総容量 4.8トン
シリンダーの風袋重量 50kg
バルブ CGA 640

アプリケーションプログラム

三フッ化窒素(NF3)は、無色無臭の気体で、様々な産業用途があります。主に半導体産業において、成膜装置やエッチングチャンバーの洗浄剤として使用されています。また、フラットパネルディスプレイ、太陽電池パネル、その他の電子機器の製造にも使用されています。しかし、NF3は強力な温室効果ガスであり、地球温暖化係数が高いため、大気中に放出されると気候変動に大きく寄与する可能性があります。そのため、NF3の使用量を削減し、これらの用途に適したより環境に優しい代替物質を見つけるための取り組みが進められています。
三フッ化窒素は、電子産業において半導体デバイスのエッチング剤として使用される。

三フッ化窒素は、電子産業において半導体デバイスのエッチング剤として使用される。

三フッ化窒素は滅菌に使用できる。

三フッ化窒素は滅菌に使用できる。

三フッ化窒素は、蒸着(CVD)プロセスによる電子機器の製造に使用できる。

三フッ化窒素は、蒸着(CVD)プロセスによる電子機器の製造に使用できる。

三フッ化窒素は強力な酸化剤である。

三フッ化窒素は強力な酸化剤である。

三フッ化窒素は、有機合成化合物の合成中間体として利用できる。

三フッ化窒素は、有機合成化合物の合成中間体として利用できる。

三フッ化窒素はコーティング材料の製造に使用できる。

三フッ化窒素はコーティング材料の製造に使用できる。

梱包と発送

製品

NF3

パッケージサイズ

40リットルシリンダー

充填量/シリンダー

20kg

20フィートコンテナに積載された数量

240気筒

総容量

4.8トン

シリンダーの風袋重量

50kg

バルブ

CGA 640

利点

製品詳細

三フッ化窒素(NF3)ガス

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