Có nhiều loạilaser excimer khíCác hỗn hợp được sử dụng trong công nghiệp và khoa học tùy thuộc vào bước sóng tia cực tím và mức năng lượng xung mong muốn. Một số hỗn hợp phổ biến và hữu ích nhất bao gồm:
- KrF (krypton fluoride) – Tạo ra tia UV 248 nm, phổ biến trong kỹ thuật in thạch bản mạch tích hợp. Hiệu suất cao và chất lượng chùm tia tốt.
- ArF (argon fluoride) – Cung cấp ánh sáng UV 193 nm, lý tưởng cho việc chế tạo chất bán dẫn tiên tiến. Năng lượng xung thấp hơn.
- XeCl (xenon clorua) – Phát ra tia UV 308 nm với năng lượng xung cao, được sử dụng trong phẫu thuật tạo hình mạch máu bằng laser.
- XeF (xenon fluoride) – Phát ra tia UV 351 nm, thích hợp cho các chất phản ứng flo hóa xung. Xung năng lượng rất cao.
- F2 (flo) – Khí flo nguyên chất tạo ra bức xạ tia cực tím chân không 157 nm, một trong những bước sóng ngắn nhất.
- KrCl (krypton clorua) – Phát xạ 222 nm được tối ưu hóa cho các thủ thuật phẫu thuật nhãn khoa. Loại bỏ mô chính xác hơn.
- ArCl (argon clorua) – Tia UV 175 nm thích hợp cho các ứng dụng quang phổ UV sâu trong nghiên cứu.
- KrBr (krypton bromide) – Môi trường excimer 206 nm với độ ổn định quang học được nâng cao, lý tưởng cho các ứng dụng công nghiệp.
Việc lựa chọn hỗn hợp khí tối ưu cho laser excimer phụ thuộc vào các yêu cầu cụ thể của ứng dụng về năng lượng xung, độ ổn định và độ chính xác bước sóng tia cực tím. Môi trường khí phù hợp sẽ tối đa hóa hiệu suất của laser excimer.
Thời gian đăng bài: 08/09/2023