Există o varietate degaz laser excimercombinații utilizate industrial și științific în funcție de lungimea de undă ultravioletă dorită și de nivelul energiei impulsurilor. Printre cele mai comune și utile amestecuri se numără:
- KrF (fluorură de kripton) – Generează UV de 248 nm, popular în litografia cu circuite integrate. Eficiență ridicată și calitate a fasciculului.
- ArF (fluorură de argon) – Oferă lumină UV de 193 nm, ideală pentru fabricarea avansată a semiconductorilor. Energie pulsată mai mică.
- XeCl (clorură de xenon) – Emite UV de 308 nm cu energii de impuls ridicate, utilizat în angioplastia cu laser.
- XeF (fluorură de xenon) – Ieșire UV de 351 nm potrivită pentru reactivi de fluorurare pulsată. Impulsuri de foarte mare energie.
- F2 (fluor) – Fluorul gazos pur produce radiații UV în vid de 157 nm, una dintre cele mai scurte lungimi de undă.
- KrCl (clorură de kripton) – emisie de 222 nm optimizată pentru proceduri chirurgicale oftalmice. Ablație tisulară mai precisă.
- ArCl (clorură de argon) – 175 nm UV potrivit pentru aplicații de spectroscopie UV profundă pentru cercetare.
- KrBr (bromură de kripton) – mediu excimer de 206 nm cu stabilitate optică îmbunătățită, ideal pentru utilizări industriale.
Alegerea amestecului optim de gaze pentru laserul excimer depinde de cerințele specifice aplicației privind energia impulsurilor, stabilitatea și precizia lungimii de undă ultraviolete. Mediul de gaz corect maximizează performanța laserelor excimeri.
Data publicării: 08 septembrie 2023