Esistono diverse tipologie digas laser a eccimeriCombinazioni utilizzate in ambito industriale e scientifico a seconda della lunghezza d'onda ultravioletta desiderata e del livello di energia dell'impulso. Alcune delle miscele più comuni e utili includono:
- KrF (fluoruro di kripton) – Genera raggi UV a 248 nm, molto diffusi nella litografia dei circuiti integrati. Elevata efficienza e qualità del fascio.
- ArF (fluoruro di argon) – Fornisce luce UV a 193 nm, ideale per la fabbricazione di semiconduttori avanzati. Energia dell'impulso inferiore.
- XeCl (cloruro di xeno) – Emette raggi UV a 308 nm con elevate energie di impulso, utilizzati nell'angioplastica laser.
- XeF (fluoruro di xeno) – Emissione UV a 351 nm adatta per reagenti di fluorurazione pulsata. Impulsi ad altissima energia.
- F2 (fluoro) – Il gas fluoro puro produce radiazioni UV sottovuoto a 157 nm, una delle lunghezze d'onda più corte.
- KrCl (cloruro di kripton) – emissione a 222 nm ottimizzata per interventi di chirurgia oftalmica. Ablazione tissutale più precisa.
- ArCl (cloruro di argon) – UV a 175 nm, adatto per applicazioni di spettroscopia UV profonda a scopo di ricerca.
- KrBr (bromuro di kripton) – Mezzo eccimero a 206 nm con stabilità ottica migliorata, ideale per usi industriali.
La scelta della miscela di gas ottimale per i laser a eccimeri dipende dai requisiti specifici dell'applicazione in termini di energia dell'impulso, stabilità e precisione della lunghezza d'onda ultravioletta. Il gas appropriato massimizza le prestazioni dei laser a eccimeri.
Data di pubblicazione: 8 settembre 2023