Gängige Gasmischungen für Excimerlaser

Es gibt eine Vielzahl vonExcimerlaser-GasJe nach gewünschter ultravioletter Wellenlänge und Pulsenergie werden industriell und wissenschaftlich unterschiedliche Kombinationen eingesetzt. Zu den gebräuchlichsten und nützlichsten Mischungen gehören:

• KrF (Kryptonfluorid) – Erzeugt UV-Licht mit einer Wellenlänge von 248 nm, das in der Lithografie integrierter Schaltungen häufig verwendet wird. Hohe Effizienz und Strahlqualität.
• ArF (Argonfluorid) – Liefert UV-Licht mit einer Wellenlänge von 193 nm, ideal für die moderne Halbleiterfertigung. Geringere Pulsenergie.
• XeCl (Xenonchlorid) – Emittiert UV-Licht mit einer Wellenlänge von 308 nm und hohen Pulsenergien, die bei der Laserangioplastie eingesetzt werden.
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• XeF (Xenonfluorid) – Ausgabe von 351 nm UV-Licht, geeignet für gepulste Fluorierungsreagenzien. Sehr energiereiche Pulse.
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• F2 (Fluor) – Reines Fluorgas erzeugt Vakuum-UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von 157 nm, eine der kürzesten Wellenlängen.
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• KrCl (Kryptonchlorid) – 222 nm Emission, optimiert für ophthalmologische Eingriffe. Präzisere Gewebeablation.
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• ArCl (Argonchlorid) – 175 nm UV geeignet für Anwendungen in der Tief-UV-Spektroskopie für Forschungszwecke.
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• KrBr (Kryptonbromid) – 206 nm Excimermedium mit verbesserter optischer Stabilität, optimal für industrielle Anwendungen.
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Die Wahl des optimalen Gasgemisches für Excimerlaser hängt von den spezifischen Anforderungen der jeweiligen Anwendung hinsichtlich Pulsenergie, Stabilität und Präzision der ultravioletten Wellenlänge ab. Das richtige Gasmedium maximiert die Leistung von Excimerlasern.