Existem diversos tipos degás laser excimerCombinações utilizadas industrial e cientificamente, dependendo do comprimento de onda ultravioleta e do nível de energia do pulso desejados. Algumas das misturas mais comuns e úteis incluem:
- KrF (fluoreto de criptônio) – Gera UV de 248 nm, um recurso popular na litografia de circuitos integrados. Apresenta alta eficiência e qualidade do feixe.
- ArF (fluoreto de argônio) – Fornece luz UV de 193 nm, ideal para a fabricação avançada de semicondutores. Menor energia de pulso.
- XeCl (cloreto de xenônio) – Emite UV de 308 nm com altas energias de pulso, sendo utilizado em angioplastia a laser.
- XeF (fluoreto de xenônio) – Emissão de UV de 351 nm, adequada para reagentes de fluoração pulsada. Pulsos de altíssima energia.
- F2 (flúor) – O gás flúor puro produz radiação ultravioleta a vácuo de 157 nm, um dos comprimentos de onda mais curtos.
- KrCl (cloreto de criptônio) – emissão de 222 nm otimizada para procedimentos de cirurgia oftálmica. Ablação de tecido mais precisa.
- ArCl (cloreto de argônio) – UV de 175 nm, adequado para aplicações de espectroscopia UV profunda em pesquisa.
- KrBr (brometo de criptônio) – meio excimérico de 206 nm com estabilidade óptica aprimorada, ideal para usos industriais.
A escolha da mistura gasosa ideal para um laser de excímero depende dos requisitos específicos da aplicação em termos de energia de pulso, estabilidade e precisão do comprimento de onda ultravioleta. O meio gasoso correto maximiza o desempenho dos lasers de excímero.
Data da publicação: 08/09/2023