Il existe une variété degaz laser excimèreLes combinaisons utilisées dans l'industrie et la recherche scientifique dépendent de la longueur d'onde ultraviolette et du niveau d'énergie d'impulsion souhaités. Voici quelques-uns des mélanges les plus courants et les plus utiles :
- Le KrF (fluorure de krypton) génère un rayonnement UV de 248 nm, couramment utilisé en lithographie de circuits intégrés. Il offre un rendement et une qualité de faisceau élevés.
- ArF (fluorure d'argon) – Fournit une lumière UV de 193 nm idéale pour la fabrication avancée de semi-conducteurs. Énergie d'impulsion plus faible.
- XeCl (chlorure de xénon) – Émet des UV de 308 nm avec des énergies d'impulsion élevées utilisées dans l'angioplastie laser.
- XeF (fluorure de xénon) – Émission d'UV à 351 nm adaptée aux réactifs de fluoration pulsée. Impulsions de très haute énergie.
- F2 (fluor) – Le fluor gazeux pur produit un rayonnement UV sous vide de 157 nm, l'une des longueurs d'onde les plus courtes.
- KrCl (chlorure de krypton) – Émission à 222 nm optimisée pour les interventions chirurgicales ophtalmiques. Ablation tissulaire plus précise.
- ArCl (chlorure d'argon) – 175 nm UV adapté aux applications de spectroscopie UV profonde pour la recherche.
- KrBr (bromure de krypton) – milieu excimère de 206 nm avec une stabilité optique améliorée, idéal pour les applications industrielles.
Le choix du mélange gazeux optimal pour un laser excimère dépend des exigences spécifiques de l'application en matière d'énergie d'impulsion, de stabilité et de précision de la longueur d'onde ultraviolette. Un milieu gazeux approprié maximise les performances des lasers excimères.
Date de publication : 8 septembre 2023