Hay una variedad degas láser de excímeroCombinaciones utilizadas industrial y científicamente según la longitud de onda ultravioleta y el nivel de energía del pulso deseados. Algunas de las mezclas más comunes y útiles incluyen:
- KrF (fluoruro de kriptón): genera luz UV de 248 nm, muy utilizada en la litografía de circuitos integrados. Ofrece alta eficiencia y calidad de haz.
- ArF (fluoruro de argón): proporciona luz UV de 193 nm, ideal para la fabricación avanzada de semiconductores. Menor energía de pulso.
- XeCl (cloruro de xenón): emite luz ultravioleta de 308 nm con altas energías de pulso, utilizada en angioplastia láser.
- XeF (fluoruro de xenón): Emisión de luz UV de 351 nm, adecuada para reactivos de fluoración pulsada. Pulsos de muy alta energía.
- F2 (flúor): El gas flúor puro produce radiación UV de vacío de 157 nm, una de las longitudes de onda más cortas.
- KrCl (cloruro de kriptón): emisión a 222 nm optimizada para procedimientos de cirugía oftálmica. Ablación tisular más precisa.
- ArCl (cloruro de argón): UV de 175 nm, adecuado para aplicaciones de espectroscopia UV profunda en investigación.
- KrBr (bromuro de kriptón): medio excimérico de 206 nm con estabilidad óptica mejorada, ideal para usos industriales.
La elección de la mezcla de gases óptima para un láser de excímeros depende de los requisitos específicos de la aplicación en cuanto a energía de pulso, estabilidad y precisión de la longitud de onda ultravioleta. El medio gaseoso adecuado maximiza el rendimiento de los láseres de excímeros.
Fecha de publicación: 8 de septiembre de 2023