아르곤 불화물 엑시머 레이저 가스 소개

    아르곤 플루오라이드화학식 ArF를 갖는 ArF는 널리 사용되는 엑시머 레이저 가스입니다. 엑시머 레이저는 반응성이 높은 기체 혼합물을 이용하여 수명이 짧은 엑시머 분자를 형성하고 자외선 레이저 광선을 방출합니다. ArF에 대한 몇 가지 주요 사실은 다음과 같습니다.

• 구성 – ArF 가스는 0.1%의 불소와 99.9%의 아르곤으로 구성되며, 네온이나 헬륨과 같은 완충 가스가 나머지를 채웁니다.

• 자외선 파장 – ArF 레이저는 가장 짧은 자외선 파장 중 하나인 193나노미터에서 결맞음 광을 방출합니다.엑시머에 의해 생성됩니다.

• 펄스 출력 – 레이저 발진은 나노초 단위의 펄스로 발생하며, 최대 피크 출력은 기가와트에 달하지만 듀티 사이클은 낮습니다.

• 냉각 시스템 – ArF 가스는 엑시머 형성을 위해 순환시키고 약 -60°C의 극저온으로 냉각해야 합니다.

• 응용 분야 – 193nm 자외선은 반도체 칩 제조를 위한 포토리소그래피 및 기타 정밀 미세 가공에 널리 사용됩니다.

짧은 파장과 안정적인 성능을 갖춘 아르곤 불화물 엑시머 레이저는 최대 해상도가 요구되는 첨단 소재 가공에 적합한 다용도 자외선 광원입니다.