ArgonfluoridArF (chemische Formel) ist ein gängiges Excimerlasergas. Excimerlaser nutzen reaktive Gasmischungen, die kurzlebige Excimermoleküle bilden und so ultraviolette Laserstrahlung in kurzen Impulsen aussenden. Einige wichtige Fakten zu ArF:
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Zusammensetzung – ArF-Gas besteht aus 0,1 % Fluor und 99,9 % Argon, der Rest ist ein Puffergas wie Neon oder Helium.
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Ultraviolette Wellenlänge – ArF-Laser emittieren kohärentes Licht bei 193 Nanometern, einer der kürzesten UV-Wellenlängen.werden durch Excimere erzeugt.
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Gepulste Leistung – Die Laseremission erfolgt in Nanosekundenpulsen mit hoher Spitzenleistung im Gigawattbereich, aber niedrigem Tastverhältnis.
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Kühlsysteme – ArF-Gas muss zirkuliert und auf kryogene Temperaturen um -60°C gekühlt werden, um die Bildung von Excimeren zu ermöglichen.
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Anwendungen – Das 193-nm-UV-Licht wird häufig in der Fotolithografie für die Halbleiterchip-Herstellung und andere Präzisionsmikrobearbeitungen eingesetzt.
Dank ihrer kurzen Wellenlänge und zuverlässigen Leistung sind Argonfluorid-Excimerlaser eine vielseitige UV-Lichtquelle für die anspruchsvolle Materialbearbeitung, die höchste Auflösung erfordert.
Veröffentlichungsdatum: 12. September 2023