Argon floruaArF, với công thức hóa học là ArF, là một loại khí phổ biến được sử dụng trong laser excimer. Laser excimer sử dụng hỗn hợp khí phản ứng tạo thành các phân tử excimer có thời gian tồn tại ngắn để phát ra các xung bức xạ laser tia cực tím. Một số thông tin quan trọng về ArF:
-
Thành phần – Khí ArF bao gồm 0,1% flo và 99,9% argon, được cân bằng với một loại khí đệm như neon hoặc heli.
-
Bước sóng cực tím – Laser ArF phát ra ánh sáng kết hợp ở bước sóng 193 nanomet, một trong những bước sóng cực tím ngắn nhất.Được tạo ra bởi các excimer.
-
Phát xung – Hiện tượng phát laser xảy ra dưới dạng các xung nano giây với công suất đỉnh cao đạt tới gigawatt nhưng chu kỳ hoạt động thấp.
-
Hệ thống làm mát – Khí ArF phải được tuần hoàn và làm mát đến nhiệt độ cực thấp khoảng -60°C để tạo điều kiện hình thành excimer.
-
Ứng dụng – Ánh sáng UV 193nm được sử dụng rộng rãi trong kỹ thuật quang khắc để sản xuất chip bán dẫn và các ứng dụng gia công vi mô chính xác khác.
Với bước sóng ngắn và hiệu suất đáng tin cậy, laser excimer argon fluoride là nguồn tia cực tím đa năng cho quá trình xử lý vật liệu tiên tiến đòi hỏi độ phân giải tối đa.
Thời gian đăng bài: 12/09/2023