fluorure d'argonL'ArF, de formule chimique ArF, est un gaz couramment utilisé dans les lasers excimères. Ces lasers utilisent des mélanges de gaz réactifs qui forment des molécules excimères à courte durée de vie pour émettre des impulsions de rayonnement laser ultraviolet. Voici quelques informations clés sur l'ArF :
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Composition – Le gaz ArF est composé de 0,1 % de fluor et de 99,9 % d'argon, le reste étant un gaz tampon comme le néon ou l'hélium.
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Longueur d'onde ultraviolette – Les lasers ArF émettent une lumière cohérente à 193 nanomètres, l'une des longueurs d'onde UV les plus courtes.générés par des excimères.
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Sortie pulsée – L’émission laser se produit par impulsions nanosecondes avec une puissance de crête élevée atteignant des gigawatts mais un faible rapport cyclique.
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Systèmes de refroidissement – Le gaz ArF doit être mis en circulation et refroidi à des températures cryogéniques d'environ -60 °C pour permettre la formation d'excimères.
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Applications – La lumière UV de 193 nm est largement utilisée en photolithographie pour la fabrication de puces semi-conductrices et autres micro-usinages de précision.
Grâce à leur courte longueur d'onde et à leurs performances fiables, les lasers excimères à fluorure d'argon constituent une source UV polyvalente pour le traitement de matériaux avancés nécessitant une résolution maximale.
Date de publication : 12 septembre 2023