Elfluoruro de argónEl láser de excímero ArF se basa en las propiedades únicas de la mezcla de gases ArF para generar un haz láser ultravioleta preciso de 193 nanómetros. A continuación, se muestra con más detalle el proceso de emisión láser:
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Descarga de gas: al aplicar una descarga eléctrica de alto voltaje al gas ArF, se crean electrones libres e iones de argón.
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Formación de excímeros: Los átomos de argón y las moléculas de flúor se unen para formar moléculas de excímero en estados excitados de corta duración.
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Emisión estimuladaión – Los excímeros se desintegran rápidamente volviendo a átomos no ligados, liberando fotones que desencadenan una mayor liberación de fotones.
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Cavidad óptica: la luz ultravioleta emitida rebota entre el espejo retrovisor y parte del espejo delantero, estimulando una mayor emisión de luz.
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Pulsos de nanosegundos: la naturaleza de no equilibrio de la reacción del excímero limita la duración del pulso a nanosegundos con niveles de potencia pico de megavatios.
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Entrega del haz: El haz de salida se enfoca y se escanea sobre la superficie del objetivo mediante componentes ópticos de precisión.
Mediante este proceso, el estado de excímero transitorio en gas fluoruro de argón puede generar de manera eficiente pulsos ultravioleta de alta energía de 193 nm para aplicaciones de micromecanizado que requieren la máxima precisión.
Fecha de publicación: 12 de septiembre de 2023