DerArgonfluoridDer ArF-Excimerlaser nutzt die einzigartigen Eigenschaften des ArF-Gasgemisches, um einen präzisen ultravioletten Laserstrahl mit einer Wellenlänge von 193 Nanometern zu erzeugen. Hier ein genauerer Blick auf den Laserprozess:
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Gasentladung – Durch Anlegen einer elektrischen Hochspannungsentladung an das ArF-Gas werden freie Elektronen und Argonionen erzeugt.
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Excimerbildung – Die Argonatome und Fluormoleküle binden sich zu Excimermolekülen in kurzlebigen angeregten Zuständen.
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Stimulierte Emissionion – Die Excimere zerfallen rasch wieder in ungebundene Atome, wobei Photonen freigesetzt werden, was wiederum die Freisetzung weiterer Photonen auslöst.
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Optischer Hohlraum – Das emittierte UV-Licht wird zwischen Rückspiegel und Teilspiegel reflektiert und regt so die Freisetzung von weiterem Licht an.
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Nanosekundenpulse – Der Nichtgleichgewichtscharakter der Excimerreaktion begrenzt die Pulsdauer auf Nanosekunden bei Spitzenleistungspegeln im Megawattbereich.
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Strahlführung – Der Ausgangsstrahl wird durch Präzisionsoptikkomponenten fokussiert und über die Zieloberfläche abgetastet.
Durch dieses Verfahren kann der transiente Excimerenzustand in Argonfluoridgas effizient hochenergetische 193nm ultraviolette Pulse für Mikrobearbeitungsanwendungen erzeugen, die höchste Präzision erfordern.
Veröffentlichungsdatum: 12. September 2023