ILfluoruro di argonIl laser a eccimeri ArF si basa sulle proprietà uniche della miscela di gas ArF per generare un preciso raggio laser ultravioletto a 193 nanometri. Ecco uno sguardo più da vicino al processo di emissione laser:
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Scarica di gas – L'applicazione di una scarica elettrica ad alta tensione al gas ArF crea elettroni liberi e ioni di argon.
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Formazione di eccimeri – Gli atomi di argon e le molecole di fluoro si legano per formare molecole di eccimeri in stati eccitati di breve durata.
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Emissione stimolataione – Gli eccimeri decadono rapidamente in atomi non legati, rilasciando fotoni che innescano un ulteriore rilascio di fotoni.
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Cavità ottica – La luce UV emessa rimbalza tra lo specchio posteriore e una parte dello specchio anteriore, stimolando un'ulteriore emissione di luce.
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Impulsi di nanosecondi – La natura di non equilibrio della reazione dell'eccimero limita la durata dell'impulso ai nanosecondi con livelli di potenza di picco di megawatt.
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Trasmissione del fascio – Il fascio in uscita viene focalizzato e scansionato sulla superficie bersaglio da componenti ottici di precisione.
Attraverso questo processo, lo stato di eccimero transitorio nel gas fluoruro di argon può generare in modo efficiente impulsi ultravioletti ad alta energia a 193 nm per applicazioni di microlavorazione che richiedono la massima precisione.
Data di pubblicazione: 12 settembre 2023