Ofluoreto de argônioO laser de excímero ArF utiliza as propriedades únicas da mistura gasosa ArF para gerar um feixe de laser ultravioleta preciso de 193 nanômetros. Veja a seguir uma análise mais detalhada do processo de emissão do laser:
-
Descarga de gás – A aplicação de uma descarga elétrica de alta tensão ao gás ArF cria elétrons livres e íons de argônio.
-
Formação de excímeros – Os átomos de argônio e as moléculas de flúor se ligam para formar moléculas de excímero em estados excitados de curta duração.
-
Emissão estimuladaÍon – Os excímeros decaem rapidamente de volta a átomos não ligados, liberando fótons que desencadeiam a liberação de mais fótons.
-
Cavidade Óptica – A luz UV emitida reflete entre o espelho retrovisor e parte do espelho retrovisor, estimulando a emissão de mais luz.
-
Pulsos de nanossegundos – A natureza de não equilíbrio da reação do excímero limita a duração do pulso a nanossegundos, com níveis de potência de pico de megawatts.
-
Entrega do feixe – O feixe de saída é focalizado e direcionado sobre a superfície do alvo por componentes ópticos de precisão.
Por meio desse processo, o estado excimer transitório no gás fluoreto de argônio pode gerar de forma eficiente pulsos ultravioleta de alta energia de 193 nm para aplicações de micromecanização que exigem máxima precisão.
Data da publicação: 12/09/2023