Lefluorure d'argonLe laser excimère ArF exploite les propriétés uniques du mélange gazeux ArF pour générer un faisceau laser ultraviolet précis de 193 nanomètres. Voici un aperçu plus détaillé du processus de fonctionnement :
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Décharge gazeuse – L’application d’une décharge électrique à haute tension au gaz ArF crée des électrons libres et des ions argon.
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Formation d'excimères – Les atomes d'argon et les molécules de fluor se lient pour former des molécules d'excimères dans des états excités de courte durée.
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Émission stimuléeion – Les excimères se désintègrent rapidement en atomes non liés, libérant des photons qui déclenchent à leur tour la libération de nouveaux photons.
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Cavité optique – La lumière UV émise rebondit entre le miroir arrière et une partie du miroir avant, stimulant ainsi une libération de lumière supplémentaire.
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Impulsions nanosecondes – La nature hors équilibre de la réaction excimère limite la durée des impulsions à des nanosecondes avec des niveaux de puissance de crête de l'ordre du mégawatt.
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Transmission du faisceau – Le faisceau de sortie est focalisé et balayé sur la surface cible par des composants optiques de précision.
Grâce à ce procédé, l'état excimère transitoire dans le gaz fluorure d'argon peut générer efficacement des impulsions ultraviolettes de haute énergie de 193 nm pour des applications de micro-usinage exigeant une précision maximale.
Date de publication : 12 septembre 2023