エキシマレーザーガス市場の成長要因

いくつかの要因は、エキシマレーザーガスArF、KrF、F2などの技術革新に対応し、技術の進歩に伴う要求に応える。

• 半導体製造 – トランジスタの小型化とチップの複雑化が進むにつれ、ムーアの法則を推進するためには、エキシマレーザーの革新が不可欠となる。

• EUVリソグラフィの商業化 ― 有望な技術だが、特殊なマスク製造にはF2が必要である。

• OLEDディスプレイ生産の拡大 – 大面積アブレーションにより製造歩留まりが向上。

• 高出力レーザーの開発 ― 新しいアーキテクチャにより、希ガスの消費量が増加する。

• 医療技術への投資 ― 世界的に高度な医療が進むにつれ、エキシマレーザーの普及が促進される。

• マイクロマシニング技術 ― 高精度アブレーションにより、マイクロ流体、マイクロノズル、その他のマイクロシステムが実現可能となる。

• 再生可能エネルギー ― エキシマテクスチャリングにより太陽電池の効率が向上する。

用途が多様化し、拡大していることから、エキシマガスの使用は長期的には着実に拡大していくと見込まれる。