Несколько факторов указывают на потенциальный значительный рост вгазы эксимерного лазеранапример, ArF, KrF и F2 для удовлетворения растущих технологических потребностей:
- Производство микросхем – уменьшение размеров транзисторов и рост сложности микросхем требуют инновационных эксимерных лазеров для реализации закона Мура.
-
Коммерциализация EUV-литографии – перспективная технология по-прежнему нуждается в F2 для производства специализированных масок.
-
Расширение производства OLED-дисплеев – абляция больших площадей повышает выход годной продукции.
-
Разработка мощных лазеров – новые архитектуры увеличивают потребление инертных газов.
-
Инвестиции в медицинские технологии – Более развитая система здравоохранения во всем мире стимулирует внедрение эксимерных лазеров.
-
Технологии микрообработки – высокоточная абляция позволяет создавать микрофлюидные системы, микросопла и другие микросистемы.
-
Возобновляемая энергия – Эксимерная текстуризация повышает эффективность солнечных элементов.
Учитывая такое разнообразие и постоянно расширяющийся спектр применения, использование эксимерного газа, по всей видимости, будет неуклонно расти в долгосрочной перспективе.
Дата публикации: 30 ноября 2023 г.