Được phát triển lần đầu vào những năm 1970, laser excimer argon fluoride tiếp tục đảm nhận những vai trò ngày càng mở rộng nhờ bước sóng phát ra độc đáo ở mức 193 nanomet. Tương lai nào đang chờ đợi công nghệ ArF?
-
Công nghệ in thạch bản thế hệ tiếp theo –Laser ArFDự kiến sẽ cho phép thu nhỏ hơn nữa quy trình chế tạo chất bán dẫn xuống kích thước dưới 10 nanomet.
-
Cải thiện khả năng kiểm soát xung – Những tiến bộ trong điều chế và định hình xung sẽ dẫn đến độ chính xác xử lý cao hơn đối với các vật liệu nhạy cảm.
-
Công suất trung bình cao hơn – Các thiết kế buồng khí mới sẽ cho phép tốc độ lặp lại cao hơn và công suất chùm tia trung bình cao hơn.
-
Hệ thống để bàn – Các thiết bị laser ArF nhỏ gọn và giá cả phải chăng hơn sẽ dẫn đến việc ứng dụng rộng rãi hơn ngoài các cơ sở chuyên biệt.
-
Các ứng dụng mới – Bước sóng 193nm có tiềm năng ứng dụng trong khử trùng, nghiên cứu huỳnh quang, phẫu thuật nano và in 3D.
-
Tái chế khí – CViệc thu hồi và làm sạch hỗn hợp khí ArF theo phương pháp khép kín sẽ giúp hoạt động tiết kiệm hơn và thân thiện với môi trường hơn.
Ngay cả sau hơn 40 năm phát triển, môi trường laser excimer tiên tiến sử dụng argon fluoride vẫn tiếp tục cung cấp nguồn ánh sáng cực tím sâu, cho phép sản xuất các vi mạch điện tử ngày càng nhỏ gọn và mạnh mẽ hơn trong tương lai gần.
Thời gian đăng bài: 14/09/2023