Die in den 1970er-Jahren entwickelten Argonfluorid-Excimerlaser finden aufgrund ihrer einzigartigen Wellenlänge von 193 Nanometern immer breitere Anwendung. Was bringt die Zukunft für die ArF-Technologie?
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Lithografie der nächsten Generation –ArF-LaserEs wird erwartet, dass dies eine weitere Miniaturisierung bis hin zur Halbleiterfertigung unter 10 Nanometern ermöglichen wird.
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Verbesserte Pulssteuerung – Fortschritte bei der Pulsmodulation und -formung werden zu einer höheren Bearbeitungsgenauigkeit für empfindliche Materialien führen.
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Höhere Durchschnittsleistungen – Neue Gaskammerkonstruktionen ermöglichen höhere Wiederholungsraten und durchschnittliche Strahlleistungen.
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Tischgeräte – Kompaktere und kostengünstigere ArF-Lasergeräte werden zu einer breiteren Anwendung über spezialisierte Einrichtungen hinaus führen.
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Neuartige Anwendungen – Die Wellenlänge von 193 nm hat Potenzial für Anwendungen in der Sterilisation, Fluoreszenzforschung, Nanochirurgie und im 3D-Druck.
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Gasrecycling – CDie Rückgewinnung und Reinigung von ArF-Gasgemischen im geschlossenen Kreislauf wird den Betrieb wirtschaftlicher und umweltfreundlicher gestalten.
Auch nach über 40 Jahren Entwicklung liefert das innovative Excimerlasermedium Argonfluorid weiterhin eine tiefe ultraviolette Lichtquelle, die die Herstellung immer kleinerer und leistungsfähigerer Mikroelektronik auf absehbare Zeit ermöglicht.
Veröffentlichungsdatum: 14. September 2023