Впервые разработанные в 1970-х годах, эксимерные лазеры на основе фторида аргона продолжают играть все более важную роль благодаря уникальной длине волны излучения в 193 нанометра. Что ждет технологию ArF в будущем?
-
Литография нового поколения –ArF-лазерыОжидается, что это позволит добиться дальнейшей миниатюризации до уровня полупроводниковых технологий с размером узла менее 10 нанометров.
-
Улучшенное управление импульсами – Достижения в области модуляции и формирования импульсов приведут к повышению точности обработки деликатных материалов.
-
Более высокая средняя мощность – Новые конструкции газовых камер позволят увеличить частоту повторения и среднюю мощность луча.
-
Настольные системы – Более компактные и доступные по цене лазерные установки на основе ArF-лазера приведут к более широкому внедрению за пределами специализированных учреждений.
-
Новые области применения – Длина волны 193 нм потенциально может использоваться в стерилизации, флуоресцентных исследованиях, нанохирургии и 3D-печати.
-
Рециркуляция газа – CВосстановление газовых смесей ArF с помощью системы рекуперации и очистки с ослабленным контуром позволит сделать эксплуатацию более экономичной и экологичной.
Даже после более чем 40 лет разработок инновационная среда эксимерного лазера на основе фторида аргона продолжает обеспечивать источник глубокого ультрафиолетового излучения, позволяя в обозримом будущем производить все более миниатюрную и мощную микроэлектронику.
Дата публикации: 14 сентября 2023 г.