A emissão de comprimento de onda exclusiva de 193 nanômetros defluoreto de argônioOs lasers de excímero possibilitaram inúmeras aplicações avançadas:
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Fotolitografia – Os lasers ArF são essenciais na fabricação de chips semicondutores para criar padrões com características pequenas.
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Cirurgia a laser – A luz de 193 nm pode remover tecido biológico com precisão.
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Cura UV – A alta energia dos fótons permiteArFlasers para iniciar a polimerização em resinas.
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Processamento a laser – Os lasers ArF podem realizar a ablação seletiva de detalhes muito finos em plásticos e outros materiais.
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Espectroscopia – O comprimento de onda curto pode induzir fluorescência para análise de compostos orgânicos.
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Sensoriamento óptico – Lasers ArF interrogam estruturas de cristais fotônicos usadas em detectores químicos.
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Fotoquímica – Lasers pulsados de ArF impulsionam fotorreações de quebra de ligações altamente seletivas.
Com os avanços na tecnologia de lasers de excímero, continuam surgindo muitas outras aplicações de micromecanização e fotoquímica para sistemas de fluoreto de argônio.
Data da publicação: 02/11/2023