L'esclusiva lunghezza d'onda di uscita di 193 nanometri difluoruro di argonI laser a eccimeri hanno permesso numerose applicazioni avanzate:
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Fotolitografia – I laser ArF sono fondamentali nella produzione di chip a semiconduttore per la realizzazione di strutture di piccole dimensioni.
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Chirurgia laser: la luce a 193 nm è in grado di ablare i tessuti biologici con precisione.
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Polimerizzazione UV – L'elevata energia dei fotoni consenteArFlaser per avviare la polimerizzazione nelle resine.
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Lavorazione laser – I laser ArF possono ablare selettivamente dettagli molto fini in materie plastiche e altri materiali.
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Spettroscopia – Le lunghezze d'onda corte possono indurre fluorescenza per l'analisi di composti organici.
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Rilevamento ottico: i laser ArF interrogano le strutture a cristallo fotonico utilizzate nei rivelatori chimici.
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Fotochimica – I laser pulsati ArF inducono fotorazioni altamente selettive che rompono i legami chimici.
Grazie ai progressi nella tecnologia dei laser a eccimeri, continuano ad emergere numerose altre applicazioni di microlavorazione e fotochimiche per i sistemi a fluoruro di argon.
Data di pubblicazione: 2 novembre 2023