エキシマレーザーガス（エキシプレックスガスとも呼ばれる）は、エキシマレーザーの発振媒体として使用されます。これらは、短寿命のエキシマ分子または二量体の生成と崩壊によって、高強度の紫外線レーザービームを放出することができます。以下に、その主な特徴を示します。エキシマガス:
- 組成 – アルゴンやクリプトンなどの希ガスと、フッ素や塩素などの反応性ハロゲンガスを混合したものである。よく用いられる組み合わせとしては、ArFとKrFがある。
- エキシマーの形成 – 希ガス原子とハロゲンガスは、電気刺激によって一時的に結合し、励起状態にある二量体であるエキシマーを形成する。この二量体はすぐに崩壊する。
- 紫外線放出 – この崩壊過程では、紫外線領域の光子が放出されます。ガス混合物の種類によって放出される紫外線の波長は異なり、様々な用途に適しています。
- パルス出力 – エキシマレーザーは、ナノ秒という非常に短いパルス幅とメガワット級の高いピーク出力を持つパルスビームを生成します。
- 冷却システム – ガスは密閉循環システムに組み込まれ、極低温まで冷却されてエキシマー反応が起こされます。
エキシマレーザーガスの持つ独自の特性、特に強力な紫外線レーザー光を生成する能力は、強力な紫外線光源を必要とする様々な技術的および産業的プロセスにおいて有用である。
投稿日時：2023年9月8日