Một trong những công dụng quan trọng nhất củaargon florua (ArF)Laser excimer được sử dụng trong kỹ thuật quang khắc trong sản xuất mạch tích hợp bán dẫn. Bước sóng 193 nanomet của laser ArF cho phép độ chính xác tạo hình cao hơn khi kích thước các linh kiện chip thu nhỏ.
-
Độ phân giải cao hơn – Bước sóng tia cực tím ngắn hơn cho phép khắc các chi tiết mạch nhỏ đến 45 nanomet lên tấm silicon.
-
Độ sâu trường ảnh được cải thiện – Bước sóng ArF cũng cung cấp biên độ độ sâu trường ảnh lớn hơn cho việc tạo hình 3D phức tạp.
-
Khắc nhanh hơn – Ánh sáng ở bước sóng 193nm được chất cản quang hấp thụ mạnh mẽ, giúp tốc độ khắc bằng phương pháp bóc tách hiệu quả hơn.
-
Giảm thiểu hiện tượng sinh nhiệt – Hiệu ứng nhiệt thấp của phương pháp khắc bằng xung ArF giúp ngăn ngừa hư hại cho các lớp chất cản quang.
-
Giảm thiểu ô nhiễm – Không giống như các bước sóng dài hơn, ánh sáng 193nm không tạo ra các chất gây ô nhiễm trong không khí trong quá trình khắc.
-
Kiểm soát laser chính xác hơn – Hệ thống dẫn truyền chùm tia tiên tiến điều chỉnh ánh sáng laser ArF để đạt độ chính xác xử lý tối đa.
Nhờ công nghệ tinh chế bằng laser excimer, môi trường argon fluoride đã góp phần tạo nên cuộc cách mạng vi mạch bằng cách hỗ trợ việc tạo hình silicon ở quy mô nanomet và hơn thế nữa.
Thời gian đăng bài: 12/09/2023