WährendKohlenstofftetrafluoridhat sich als dielektrisches Gas und Plasmaätzmittel etabliert, und neue Anwendungen nutzen weiterhin seine einzigartigen Eigenschaften:
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Vorstufe für die Fluorpolymersynthese – CF4-Plasma unterstützt die Abscheidung schützender Fluorkohlenstoffpolymerfilme und -pulver.
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Kernbrennstoffumwandlung – CF4 kann Uranhexafluorid zur Urananreicherung herstellen
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Halbleiterreinigung – CF4-Plasma entfernt Siliziumdioxid und Fotolackreste.
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Tracergas – wird zur Erkennung von Lecks und Strömungsmustern bei sehr niedrigen Konzentrationen verwendet.
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Oberflächenmodifizierung von Linsen – Die CF4-Behandlung verbessert die Hydrophobie optischer Linsen
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Kühlung von Teilchenbeschleunigern – die hervorragende Wärmekapazität macht CF4 ideal für die Kühlung supraleitender Bereiche
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Negative Ionenstrahlen – Die Injektion von CF4 in Duoplasmatrone erhöht die negative Ionenstromausbeute.
Die extreme chemische Stabilität in Kombination mit der leichten Dissoziierbarkeit von CF4 ergibt eine vielseitige Kombination, für die Forscher immer wieder neue Anwendungen in wissenschaftlichen und industriellen Bereichen finden.
Veröffentlichungsdatum: 24. Oktober 2023